激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用黄
河1, 朱
晓1*, 朱长虹1, 朱广志1, 李跃松2, 张
沛2, 万承华2( 1. 华中科技大学激光工程研究院, 武汉430074; 2. 清溢精密光电有限公司, 深圳518000)摘要: 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补, 采用激光化学气相沉积的方法, 利用功率密度为1. 3  108W / cm2 的355nm 紫外激光诱导C r( CO) 6 分解, 在1. 5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明, 在开放的环境下, 采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜, 满足了微电子行业中对掩模版修复的要求。关键词: 激光技术; 光化学; 光掩模修复; 激光化学气相沉积; 开放式

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